產品詳情
  • 產品名稱:帶手套箱三源蒸發鍍膜儀

  • 產品型號:
  • 產品廠商:泰諾
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簡單介紹:
鍍膜設備以金屬/有機源蒸發為主體,適用于實驗室制備金屬單質、氧化物、介電質、半導體膜
詳情介紹:

一、設備性能:

鍍膜設備以金屬/有機源蒸發為主體,適用于實驗室制備金屬單質、氧化物、介電質、半導體膜等,也可用作教學及生產線前期工藝試驗等,整套設備操作簡便,綜合功能多,擴展空間大,適合及滿足大專院校的教學與科研工作。

二、設備基本結構:

鍍膜設備由真空室腔體,金屬/有機源系統,樣品臺系統,真空泵機組,膜厚檢測系統,設備機架,電控系統組成,真空室前門可與手套箱對接,采用一體化的設計方案,整套設備結構緊湊、布局簡潔,避免實驗設備外觀凌亂的現象。

三、設備技術指標:

1. 真空室腔體

外形

上等 304 不銹鋼 D 形真空室腔體 1 套,真空室內部尺寸 D400*480mm,前后雙開門,后門采用鉸鏈式方門,方便清洗真空腔體,真空室內部調試,維修以及取放物品,前門采用橫拉方門,前后門各配 DN100 視窗 1 套;

底部

金屬源接口 2 套,有機源接口 4 套, 復合分子泵接口 1 套,CF25照明接口 2 套以及膜厚探頭接口 3 套;

頂部

樣品臺接口 1 套,電動擋板接口 1 套,高真空氣動擋板閥接口 1

左側

超高真空氣動擋板閥接口 1

2. 金屬/有機源系統

金屬蒸發源

金屬蒸發源 2 :水冷銅電極 2 組,兼容蒸發舟(鎢、鉬和鉭舟)和螺旋絲,配氣動擋板,1KW 直流恒流電源 1 臺(數字顯示),電流調整精度 1A(微調),功率滿足常見的金屬以及金屬氧化物的蒸鍍;

有機蒸發源 4

有機蒸發源 4 :4CC4ml) 石英舟,溫控電源 2 臺(溫控表顯示精度 0.1℃),溫度區間:室溫-500℃(控溫精度±1℃),配氣動擋板;

隔板

蒸發源相互獨立,隔板分隔,避免交叉污

3. 樣品臺系統

基片旋轉

轉速 030 轉/分連續可調

基片升降

電動升降,襯底與蒸發源間距 200-300mm 通過觸摸屏連續可調;

樣品臺

圓形托盤 1 套,一次可放置820×20mm 基片

基片擋板

電動擋板

4. 真空泵機組

真空泵機組

1) 600L/s分子泵 1 臺;

2) 8L/s雙級泵 1

3) CF150 氣動超高真空插板閥 1 臺;

4) CF40 超高真空氣動擋板閥 1 臺;

5) KF16 高真空氣動擋板閥 1 臺;

6) KF40 高真空氣動擋板閥 1 臺;

7) KF40 真空電磁充氣閥 1 臺;

8) KF40 泵閥連接軟管 2 套,KF40 三通 1 套;
9) ZDF-5227 數顯真空計 1 臺(測量范圍:1×1051×10-5Pa)。

5. 膜厚檢測系統

膜厚儀

三通道石英晶振膜厚監測儀 1 套;

膜厚探頭

CF35 水冷膜厚探頭 3

6. 設備機架

1) 40 碳鋼方管焊接機架 1 套,表面噴塑;

2) 萬向輪 4 件,移動調整;

3) M16 地腳 4 件,鎖緊定位

7. 電控系統

金屬源蒸發源氣動擋板

2

金屬蒸發源電源1kw

1

有機源蒸發源氣動擋板

4

有機蒸發源電源

2套(12

烘烤照明電源

1

樣品臺電動擋板

1

總控制電源

1

PLC 控制

配觸摸屏

8.手套箱

腔體尺寸

L1200* W750* H900mm

手套

3

大過渡艙

內徑360mm, 600mm

小過渡艙

內徑150mm, 300mm

9. 其他技術參數

1) 缺相保護、誤操作保護,聯動互鎖以及一鍵真空啟停等功能;

2) 供電:~220V 兩相供電系統(峰值 3KW);

3) 供水:小型冷水機,冷卻水溫度 5℃~35℃,工作環境溫度:10℃~40℃;

4) 供氣:小型無油靜音氣泵,提供 0.2-0.3MPa 氣壓,驅動氣動閥門;

5) 極限真空:優于 6×10-5Pa,大氣至 6×10-4Pa 時間小于 35 分鐘(充干燥氮氣),關機

12 小時真空度≤10Pa。

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