產品詳情
  • 產品名稱:偏置靶型單靶磁控鍍膜儀

  • 產品型號:CY-MSP300G-RB
  • 產品廠商:泰諾
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簡單介紹:
偏置靶型單靶磁控鍍膜儀配有一個直流電源,可用于金屬及其他導電材料的濺射。偏置靶型單靶磁控鍍膜儀真空系統采用渦輪分子泵組,抽氣速度快,極限真空度高,真空性能優異。本設備結構緊湊功能完善便于使用,非常適合用于各類鍍膜試驗
詳情介紹:

本設備為偏置靶型單靶磁控鍍膜儀,磁控靶偏置于腔體一側,濺射范圍可覆蓋樣品臺一半,通過樣品臺旋轉可以實現更大樣品的均勻鍍膜。理論*大支持樣品直徑為180mm。設備外形為桌面級別,大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源,可用于金屬及其他導電材料的濺射。設備真空系統采用渦輪分子泵組,抽氣速度快,極限真空度高,真空性能優異。本設備結構緊湊功能完善便于使用,非常適合用于各類鍍膜試驗。

偏置靶型單靶磁控鍍膜儀技術參數:

CY-MSP300G-RB rotate bias) 桌面型大腔體偏置靶單靶磁控鍍膜儀

樣品臺

尺寸

φ150mm

轉速

轉速0-20rpm可調

磁控濺射靶

數量

2” x1  偏置于腔體一側

 

 

真空腔體

腔體尺寸

φ300mm X 200mm

觀察窗口

全向可視

腔體材料

高純石英

開啟方式

頂蓋拆卸式

下法蘭

裝有旋轉式樣品臺及進出氣口

真空系統

機械泵

雙級旋片泵

抽氣接口

KF16

分子泵

渦輪分子泵

抽氣接口

KF40

真空測量

電阻規+電離規復合真空計

排氣接口

KF40

極限真空

1.0E-3Pa

供電電源

AC 220V 50/60Hz

抽氣速率

前級泵 1.1L/s 分子泵:60L/S

電源配置

數量

直流電源 x1

*大輸出功率

直流電源300W

 

其他

供電電壓

AC220V,50Hz

整機尺寸

500mm X 320mm X6200mm

整機功率

2kW

 

 

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