產品詳情
  • 產品名稱:桌面型單靶磁控鍍膜儀

  • 產品型號:CY-MSP180S-DC-GU
  • 產品廠商:泰諾
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簡單介紹:
本設備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設備經過小型化設計,將設備外形限制在了桌面級別,大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源,能夠用于濺射金屬材料,具有速度快溫升低等特點。真空腔體整體采用下置靶設計,濺射效果好,雜質污染少,能*大限度的保護樣品。
詳情介紹:

本設備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設備經過小型化設計,將設備外形限制在了桌面級別,大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源,能夠用于濺射金屬材料,具有速度快溫升低等特點。真空腔體整體采用下置靶設計,濺射效果好,雜質污染少,能*大限度的保護樣品。

桌面型靶下置型磁控鍍膜技術參數:

CY-MSP180S-DC-GU

樣品臺

尺寸

φ100mm

加熱

*高500

轉速

0-20可調

安裝方式

上置于腔體上蓋,樣品安裝為夾持式

磁控濺射靶

數量

2” x1 下置安裝與腔體下法蘭

 

 

真空腔體

腔體尺寸

φ180mm X 215mm

觀察窗口

前置式 φ60mm

腔體材料

SS304

開啟方式

上頂開式

真空系統

機械泵

旋片泵

抽氣接口

KF16

分子泵

渦輪分子泵

抽氣接口

KF40

真空測量

電阻規+電離規

排氣接口

KF16

極限真空

1.0E-4Pa

供電電源

AC 220V 50/60Hz

抽氣速率

機械泵1.1L/s  分子泵60L/s

電源配置

數量

直流電源 x1

*大輸出功率

直流電源300W

 

其他

供電電壓

AC220V,50Hz

整機尺寸

550mm X 350mm X400mm

整機功率

2kW

 

 

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