產品詳情
  • 產品名稱:桌面型單靶磁控濺射鍍膜儀

  • 產品型號:TN-MSP180G-DC
  • 產品廠商:泰諾
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簡單介紹:
桌面型單靶磁控濺射鍍膜儀可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,桌面型單靶磁控濺射鍍膜儀也可實驗室SEM樣品制備。
詳情介紹:

桌面型單靶磁控鍍膜儀可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備。本套配置采用英真空腔體,鍍膜過程全向可視,便于實驗的觀察記錄,腔體設計開啟方便,易于清理,十分適合實驗室使用。
旋轉加熱樣品臺可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質量。整機采用模塊化設計,操作邏輯簡單,操作界面直觀,利于上手。該型號可選配膜厚儀組件,可實時監測膜厚數據,為實驗工藝提供可靠參數。

名稱
桌面型單靶磁控鍍膜儀
型號
TN-MSP180G-DC
特點
  • A.小型化設計,將設備外形限制在了桌面級別
  • B.旋轉加熱樣品臺,有效提高薄膜的均勻性和成膜的質量
  • C.可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等
  • D.可選配膜厚儀組件,可實時監測膜厚數據
技術參數
  • 1.樣品臺: 直徑100mm, *高溫度500℃控溫精度 ±1℃,可旋轉 0-20rpm 可調
  • 2.磁控靶槍: 2 英寸圓形平面靶,水冷 
  • 3.真空腔體: Φ180mm × H 215mm;高純石英; 觀察窗口 全向透明; 開啟方式 頂蓋拆卸式
  • 4.直流電源: 1臺,輸出功率≤300W,輸出電壓≤600V,響應時間<5ms
  • 5.水冷系統 水箱容積 9L 流量 10L/min
  • 6.供電電壓:AC220V 50H 整機功率 2kw
  • 7.膜厚儀 測量精度 0.1埃米 冷卻方式 水冷(可選配膜厚儀組件,可實時監測膜厚數據
  • 8.本設備不含真空泵,用戶應搭配分子泵組進行使用,推薦本公司CY-GZK103A泵組。


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