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真空蒸發等離子濺射二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發組件,不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜,也可以用蒸發的方式得到碳或者其他金屬單質的薄膜。儀器元件高度集成化,在同一個腔體內即實現了兩種鍍膜功能;本鍍膜儀采用304不銹鋼腔體作真空腔體,鍍膜過程完全可見。儀器標配雙極旋片真空泵,能夠快速達到1.0E-3Pa的真空度,極限真空度1.0E-5Pa,可滿足大多數蒸發鍍膜實驗和二極濺射實驗所需的真空環境。本儀器體積小,節省空間,能夠置于試驗臺上使用,一機多用,性價比突出,非常適合各大高校及研究機構選用。
名稱
高真空蒸發等離子濺射二合一鍍膜儀
型號
TN-EVS180S-HV
應用
掃描電鏡樣品表面噴金、蒸金噴碳等操作,以及非導體材料試驗電極的制作等。
技術參數
供電電壓 AC220V,60Hz
max大功率 1200W
樣品臺 直徑φ65mm;
與蒸發源間距可調,調節范圍60mm-100mm
真空腔體 材質:304不銹鋼 O.Dφ168mm x I.Dφ160mm x 210mm
max高溫度 1700℃
熱電偶 B型熱電偶
真空計 電子式真空計
真空系統 前級泵:浦發MVP030 無油泵 抽速30L/min
次級泵:萊寶TURBOVAC 90iX 抽速90L/s
真空接口 KF40
進氣接口 1/4卡套接頭
規格
整機尺寸 500x350x400mm