0371-5536 5392 0371-5519 9322
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PECVD等離子體增強化學... 化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術，能夠利用高能量等離子體促進反應過程，有效提升反應速度，降低反應溫度。適用...
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CVD化學氣相沉積系統 CVD（化學氣相沉積）氣相沉積系統是一種常用的薄膜制備技術，通過在高溫下將氣體反應物質與基底表面反應，形成薄膜
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派瑞林真空氣相沉積 派瑞林真空氣相沉積（PECVD）是一種常用的薄膜沉積技術，用于在材料表面上制備薄膜。它是在真空環境中使用氣相化學反應來沉...
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PECVD氣相沉積 PECVD氣相沉積在超大規模集成電路、光電器件、MEMS等領域具有廣泛的應用
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晶圓級大尺寸二硫化鉬制備裝... 晶圓級大尺寸二硫化鉬制備裝置包括三溫區管式爐，特殊設計的爐管及配套氣路一組，晶圓級大尺寸二硫化鉬制備裝置通過特殊設計的管...